క్రిస్టల్ తలాలు మరియు క్రిస్టల్ ధోరణి మధ్య సంబంధం.

4. సెమీకండక్టర్ ప్రక్రియలలో ఆచరణాత్మక అనువర్తనాలు

సిలికాన్ ఆధారిత సెమీకండక్టర్ తయారీలో, క్రిస్టల్ ఓరియంటేషన్ మరియు క్రిస్టల్ ప్లేన్‌లు అనేక అంశాలలో వర్తించబడతాయి:

క్రిస్టల్ గ్రోత్: సెమీకండక్టర్ స్ఫటికాలు సాధారణంగా నిర్దిష్ట క్రిస్టల్ ధోరణుల వెంట పెరుగుతాయి. సిలికాన్ స్ఫటికాలు సాధారణంగా [100] లేదా [111] ధోరణుల వెంట పెరుగుతాయి ఎందుకంటే ఈ ధోరణులలోని స్థిరత్వం మరియు పరమాణు అమరిక స్ఫటిక పెరుగుదలకు అనుకూలంగా ఉంటాయి.

ఎచింగ్ ప్రక్రియ: తడి ఎచింగ్‌లో, వివిధ క్రిస్టల్ ప్లేన్‌లు వేర్వేరు ఎచింగ్ రేట్లను కలిగి ఉంటాయి. ఉదాహరణకు, సిలికాన్ యొక్క (100) మరియు (111) ప్లేన్‌లపై ఎచింగ్ రేట్లు భిన్నంగా ఉంటాయి, ఫలితంగా అనిసోట్రోపిక్ ఎచింగ్ ప్రభావాలు ఏర్పడతాయి.

పరికర లక్షణాలు: MOSFET పరికరాల్లో ఎలక్ట్రాన్ చలనశీలత క్రిస్టల్ ప్లేన్ ద్వారా ప్రభావితమవుతుంది. సాధారణంగా, (100) ప్లేన్‌లో చలనశీలత ఎక్కువగా ఉంటుంది, అందుకే ఆధునిక సిలికాన్-ఆధారిత MOSFETలు ప్రధానంగా (100) వేఫర్‌లను ఉపయోగిస్తాయి.

సారాంశంలో, క్రిస్టల్ ప్లేన్‌లు మరియు క్రిస్టల్ ఓరియంటేషన్‌లు క్రిస్టలోగ్రఫీలో స్ఫటికాల నిర్మాణాన్ని వివరించడానికి రెండు ప్రాథమిక మార్గాలు. క్రిస్టల్ ఓరియంటేషన్ అనేది క్రిస్టల్‌లోని దిశాత్మక లక్షణాలను సూచిస్తుంది, అయితే క్రిస్టల్ ప్లేన్‌లు క్రిస్టల్‌లోని నిర్దిష్ట ప్లేన్‌లను వివరిస్తాయి. ఈ రెండు భావనలు సెమీకండక్టర్ తయారీలో దగ్గరి సంబంధం కలిగి ఉంటాయి. క్రిస్టల్ ప్లేన్‌ల ఎంపిక నేరుగా పదార్థం యొక్క భౌతిక మరియు రసాయన లక్షణాలను ప్రభావితం చేస్తుంది, అయితే క్రిస్టల్ ఓరియంటేషన్ క్రిస్టల్ పెరుగుదల మరియు ప్రాసెసింగ్ పద్ధతులను ప్రభావితం చేస్తుంది. సెమీకండక్టర్ ప్రక్రియలను ఆప్టిమైజ్ చేయడానికి మరియు పరికర పనితీరును మెరుగుపరచడానికి క్రిస్టల్ ప్లేన్‌లు మరియు ఓరియంటేషన్‌ల మధ్య సంబంధాన్ని అర్థం చేసుకోవడం చాలా ముఖ్యం.