సిలికాన్ కార్బైడ్ (SiC) క్షితిజ సమాంతర ఫర్నేస్ ట్యూబ్

చిన్న వివరణ:

సిలికాన్ కార్బైడ్ (SiC) క్షితిజ సమాంతర ఫర్నేస్ ట్యూబ్ సెమీకండక్టర్ ఫ్యాబ్రికేషన్, ఫోటోవోల్టాయిక్ తయారీ మరియు అధునాతన మెటీరియల్ ప్రాసెసింగ్‌లో ఉపయోగించే అధిక-ఉష్ణోగ్రత గ్యాస్-ఫేజ్ ప్రతిచర్యలు మరియు ఉష్ణ చికిత్సలకు ప్రధాన ప్రక్రియ గది మరియు పీడన సరిహద్దుగా పనిచేస్తుంది.

మాకు ఇమెయిల్ పంపండి

లక్షణాలు

వివరణాత్మక రేఖాచిత్రం

ఉత్పత్తి స్థాన నిర్ధారణ & విలువ ప్రతిపాదన

దట్టమైన CVD-SiC రక్షణ పొరతో కలిపి సింగిల్-పీస్, సంకలిత-తయారీ చేసిన SiC నిర్మాణంతో రూపొందించబడిన ఈ ట్యూబ్ అసాధారణమైన ఉష్ణ వాహకత, కనిష్ట కాలుష్యం, బలమైన యాంత్రిక సమగ్రత మరియు అత్యుత్తమ రసాయన నిరోధకతను అందిస్తుంది.
దీని డిజైన్ అత్యుత్తమ ఉష్ణోగ్రత ఏకరూపత, పొడిగించిన సేవా విరామాలు మరియు స్థిరమైన దీర్ఘకాలిక ఆపరేషన్‌ను నిర్ధారిస్తుంది.

కోర్ ప్రయోజనాలు

సిస్టమ్ ఉష్ణోగ్రత స్థిరత్వం, శుభ్రత మరియు మొత్తం పరికరాల ప్రభావాన్ని (OEE) పెంచుతుంది.
శుభ్రపరచడానికి డౌన్‌టైమ్‌ను తగ్గిస్తుంది మరియు భర్తీ చక్రాలను పొడిగిస్తుంది, యాజమాన్యం యొక్క మొత్తం ఖర్చు (TCO) తగ్గిస్తుంది.
అధిక-ఉష్ణోగ్రత ఆక్సీకరణ మరియు క్లోరిన్-రిచ్ కెమిస్ట్రీలను తక్కువ ప్రమాదంతో నిర్వహించగల దీర్ఘకాల గదిని అందిస్తుంది.

వర్తించే వాతావరణం & ప్రాసెస్ విండో

రియాక్టివ్ వాయువులు: ఆక్సిజన్ (O₂) మరియు ఇతర ఆక్సీకరణ మిశ్రమాలు
వాహక/రక్షణ వాయువులు: నైట్రోజన్ (N₂) మరియు అతి స్వచ్ఛమైన జడ వాయువులు
అనుకూల జాతులు: క్లోరిన్-బేరింగ్ వాయువులను గుర్తించండి (గాఢత మరియు నివాస సమయం రెసిపీ-నియంత్రిత)

సాధారణ ప్రక్రియలు: పొడి/తడి ఆక్సీకరణ, ఎనియలింగ్, విస్తరణ, LPCVD/CVD నిక్షేపణ, ఉపరితల క్రియాశీలత, ఫోటోవోల్టాయిక్ పాసివేషన్, క్రియాత్మక సన్నని-పొర పెరుగుదల, కార్బొనైజేషన్, నైట్రిడేషన్ మరియు మరిన్ని.

ఆపరేటింగ్ పరిస్థితులు

ఉష్ణోగ్రత: గది ఉష్ణోగ్రత 1250 °C వరకు (హీటర్ డిజైన్ మరియు ΔT ఆధారంగా 10–15% భద్రతా మార్జిన్‌ను అనుమతించండి)
ఒత్తిడి: అల్ప పీడనం/LPCVD వాక్యూమ్ స్థాయిల నుండి వాతావరణానికి దగ్గరగా ఉన్న సానుకూల పీడనం వరకు (కొనుగోలు ఆర్డర్‌కు తుది స్పెక్)

పదార్థాలు & నిర్మాణ తర్కం

మోనోలిథిక్ SiC బాడీ (అడిటివ్ తయారీ)

అధిక సాంద్రత కలిగిన β-SiC లేదా మల్టీఫేస్ SiC, ఒకే భాగం వలె నిర్మించబడింది - లీక్ అయ్యే లేదా ఒత్తిడి బిందువులను సృష్టించే బ్రేజ్ చేయబడిన కీళ్ళు లేదా అతుకులు ఉండవు.
అధిక ఉష్ణ వాహకత వేగవంతమైన ఉష్ణ ప్రతిస్పందనను మరియు అద్భుతమైన అక్షసంబంధ/రేడియల్ ఉష్ణోగ్రత ఏకరూపతను అనుమతిస్తుంది.
తక్కువ, స్థిరమైన ఉష్ణ విస్తరణ గుణకం (CTE) అధిక ఉష్ణోగ్రతల వద్ద డైమెన్షనల్ స్థిరత్వాన్ని మరియు నమ్మకమైన సీలింగ్‌లను నిర్ధారిస్తుంది.

CVD SiC ఫంక్షనల్ పూత

కణ ఉత్పత్తిని మరియు లోహ అయాన్ విడుదలను అణిచివేయడానికి ఇన్-సిటు డిపాజిటెడ్, అల్ట్రా-ప్యూర్ (ఉపరితల/పూత మలినాలు < 5 ppm).
ఆక్సీకరణ మరియు క్లోరిన్-బేరింగ్ వాయువులకు వ్యతిరేకంగా అద్భుతమైన రసాయన జడత్వం, గోడ దాడి లేదా తిరిగి నిక్షేపణను నివారిస్తుంది.
తుప్పు నిరోధకత మరియు ఉష్ణ ప్రతిస్పందనను సమతుల్యం చేయడానికి జోన్-నిర్దిష్ట మందం ఎంపికలు.

కలిపిన ప్రయోజనం: దృఢమైన SiC బాడీ నిర్మాణ బలం మరియు ఉష్ణ వాహకతను అందిస్తుంది, అయితే CVD పొర గరిష్ట విశ్వసనీయత మరియు నిర్గమాంశ కోసం శుభ్రత మరియు తుప్పు నిరోధకతను హామీ ఇస్తుంది.

కీలక పనితీరు లక్ష్యాలు

నిరంతర వినియోగ ఉష్ణోగ్రత:≤ 1250 °C (ఉష్ణోగ్రత)
బల్క్ సబ్‌స్ట్రేట్ మలినాలు:< 300 పిపిఎం
CVD-SiC ఉపరితల మలినాలు:< 5 పిపిఎం
డైమెన్షనల్ టాలరెన్స్‌లు: OD ±0.3–0.5 mm; కోక్సియాలిటీ ≤ 0.3 mm/m (బిగుతుగా అందుబాటులో ఉంది)
లోపలి గోడ కరుకుదనం: Ra ≤ 0.8–1.6 µm (పాలిష్ చేయబడిన లేదా అద్దం దగ్గర ముగింపు ఐచ్ఛికం)
హీలియం లీక్ రేటు: ≤ 1 × 10⁻⁹ Pa·m³/s
థర్మల్-షాక్ ఓర్పు: పగుళ్లు లేదా చిట్లడం లేకుండా పదే పదే వేడి/చల్లని సైక్లింగ్‌ను తట్టుకుంటుంది.
క్లీన్‌రూమ్ అసెంబ్లీ: ధృవీకరించబడిన కణం/లోహ-అయాన్ అవశేష స్థాయిలతో ISO క్లాస్ 5–6

కాన్ఫిగరేషన్‌లు & ఎంపికలు

జ్యామితి: OD 50–400 mm (మూల్యాంకనం ప్రకారం పెద్దది) పొడవైన వన్-పీస్ నిర్మాణంతో; యాంత్రిక బలం, బరువు మరియు ఉష్ణ ప్రవాహానికి అనుకూలీకరించబడిన గోడ మందం.
ముగింపు డిజైన్లు: ఫ్లాంజ్‌లు, బెల్-మౌత్, బయోనెట్, లొకేటింగ్ రింగులు, O-రింగ్ గ్రూవ్‌లు మరియు కస్టమ్ పంప్-అవుట్ లేదా ప్రెజర్ పోర్ట్‌లు.
ఫంక్షనల్ పోర్ట్‌లు: థర్మోకపుల్ ఫీడ్‌త్రూలు, సైట్-గ్లాస్ సీట్లు, బైపాస్ గ్యాస్ ఇన్‌లెట్‌లు - అన్నీ అధిక-ఉష్ణోగ్రత, లీక్-టైట్ ఆపరేషన్ కోసం రూపొందించబడ్డాయి.
పూత పథకాలు: లోపలి గోడ (డిఫాల్ట్), బయటి గోడ లేదా పూర్తి కవరేజ్; అధిక-ఇంపీజ్‌మెంట్ ప్రాంతాల కోసం లక్ష్యంగా ఉన్న షీల్డింగ్ లేదా గ్రేడెడ్ మందం.
ఉపరితల చికిత్స & శుభ్రత: బహుళ కరుకుదనం గ్రేడ్‌లు, అల్ట్రాసోనిక్/DI క్లీనింగ్ మరియు కస్టమ్ బేక్/డ్రై ప్రోటోకాల్‌లు.
ఉపకరణాలు: గ్రాఫైట్/సిరామిక్/మెటల్ ఫ్లాంజ్‌లు, సీల్స్, లొకేటింగ్ ఫిక్చర్‌లు, హ్యాండ్లింగ్ స్లీవ్‌లు మరియు స్టోరేజ్ క్రెడిల్స్.

పనితీరు పోలిక

మెట్రిక్	SiC ట్యూబ్	క్వార్ట్జ్ ట్యూబ్	అల్యూమినా ట్యూబ్	గ్రాఫైట్ ట్యూబ్
ఉష్ణ వాహకత	ఎత్తు, ఏకరీతి	తక్కువ	తక్కువ	అధిక
అధిక-ఉష్ణోగ్రత బలం/క్రీప్	అద్భుతంగా ఉంది	న్యాయమైన	మంచిది	మంచిది (ఆక్సీకరణ-సున్నితమైనది)
థర్మల్ షాక్	అద్భుతంగా ఉంది	బలహీనమైనది	మధ్యస్థం	అద్భుతంగా ఉంది
శుభ్రత / లోహ అయాన్లు	అద్భుతమైనది (తక్కువ)	మధ్యస్థం	మధ్యస్థం	పేద
ఆక్సీకరణ & Cl-రసాయన శాస్త్రం	అద్భుతంగా ఉంది	న్యాయమైన	మంచిది	పేలవమైనది (ఆక్సీకరణం చెందుతుంది)
ఖర్చు vs. సేవా జీవితం	మధ్యస్థ / దీర్ఘకాల జీవితకాలం	తక్కువ / తక్కువ	మీడియం / మీడియం	మీడియం / పర్యావరణ-పరిమితం

తరచుగా అడిగే ప్రశ్నలు (FAQ)

ప్రశ్న 1. 3D-ప్రింటెడ్ మోనోలిథిక్ SiC బాడీని ఎందుకు ఎంచుకోవాలి?
A. ఇది ఒత్తిడిని లీక్ చేయగల లేదా కేంద్రీకరించగల సీమ్‌లు మరియు బ్రేజ్‌లను తొలగిస్తుంది మరియు స్థిరమైన డైమెన్షనల్ ఖచ్చితత్వంతో సంక్లిష్ట జ్యామితికి మద్దతు ఇస్తుంది.

ప్రశ్న 2. క్లోరిన్ కలిగిన వాయువులకు SiC నిరోధకతను కలిగి ఉందా?
A. అవును. పేర్కొన్న ఉష్ణోగ్రత మరియు పీడన పరిమితుల్లో CVD-SiC చాలా జడమైనది. అధిక-ప్రభావ ప్రాంతాలకు, స్థానికీకరించిన మందపాటి పూతలు మరియు బలమైన ప్రక్షాళన/ఎగ్జాస్ట్ వ్యవస్థలు సిఫార్సు చేయబడ్డాయి.

ప్రశ్న 3. ఇది క్వార్ట్జ్ ట్యూబ్‌లను ఎలా అధిగమిస్తుంది?
A. SiC సుదీర్ఘ సేవా జీవితాన్ని, మెరుగైన ఉష్ణోగ్రత ఏకరూపతను, తక్కువ కణ/లోహ-అయాన్ కాలుష్యాన్ని మరియు మెరుగైన TCOను అందిస్తుంది—ముఖ్యంగా ~900 °C కంటే ఎక్కువ లేదా ఆక్సీకరణ/క్లోరినేటెడ్ వాతావరణాలలో.

Q4. ట్యూబ్ వేగవంతమైన థర్మల్ ర్యాంపింగ్‌ను నిర్వహించగలదా?
A. అవును, గరిష్ట ΔT మరియు ర్యాంప్-రేట్ మార్గదర్శకాలను పాటిస్తే. అధిక-κ SiC బాడీని సన్నని CVD పొరతో జత చేయడం వలన వేగవంతమైన ఉష్ణ పరివర్తనలు జరుగుతాయి.

Q5. ఎప్పుడు భర్తీ అవసరం?
ఎ. మీరు ఫ్లాంజ్ లేదా అంచు పగుళ్లు, పూత గుంటలు లేదా స్పలేషన్, పెరుగుతున్న లీక్ రేట్లు, గణనీయమైన ఉష్ణోగ్రత-ప్రొఫైల్ డ్రిఫ్ట్ లేదా అసాధారణ కణాల ఉత్పత్తిని గుర్తించినట్లయితే ట్యూబ్‌ను మార్చండి.

మా గురించి

XKH ప్రత్యేక ఆప్టికల్ గ్లాస్ మరియు కొత్త క్రిస్టల్ పదార్థాల హై-టెక్ అభివృద్ధి, ఉత్పత్తి మరియు అమ్మకాలలో ప్రత్యేకత కలిగి ఉంది. మా ఉత్పత్తులు ఆప్టికల్ ఎలక్ట్రానిక్స్, కన్స్యూమర్ ఎలక్ట్రానిక్స్ మరియు మిలిటరీకి సేవలు అందిస్తాయి. మేము సఫైర్ ఆప్టికల్ భాగాలు, మొబైల్ ఫోన్ లెన్స్ కవర్లు, సెరామిక్స్, LT, సిలికాన్ కార్బైడ్ SIC, క్వార్ట్జ్ మరియు సెమీకండక్టర్ క్రిస్టల్ వేఫర్‌లను అందిస్తున్నాము. నైపుణ్యం కలిగిన నైపుణ్యం మరియు అత్యాధునిక పరికరాలతో, మేము ప్రముఖ ఆప్టోఎలక్ట్రానిక్ మెటీరియల్ హై-టెక్ ఎంటర్‌ప్రైజ్‌గా ఉండాలనే లక్ష్యంతో ప్రామాణికం కాని ఉత్పత్తి ప్రాసెసింగ్‌లో రాణిస్తున్నాము.