సిలికాన్ 8-అంగుళాల మరియు 6-అంగుళాల SOI (సిలికాన్-ఆన్-ఇన్సులేటర్) పొరలపై SOI వేఫర్ ఇన్సులేటర్

టాప్ సిలికాన్ లేయర్, ఇన్సులేటింగ్ ఆక్సైడ్ లేయర్ మరియు దిగువ సిలికాన్ సబ్‌స్ట్రేట్‌తో కూడిన మూడు-పొర SOI పొర మైక్రోఎలక్ట్రానిక్స్ మరియు RF డొమైన్‌లలో అసమానమైన ప్రయోజనాలను అందిస్తుంది.టాప్ సిలికాన్ లేయర్, అధిక-నాణ్యత స్ఫటికాకార సిలికాన్‌ను కలిగి ఉంటుంది, ఖచ్చితత్వం మరియు సామర్థ్యంతో క్లిష్టమైన ఎలక్ట్రానిక్ భాగాల ఏకీకరణను సులభతరం చేస్తుంది.ఇన్సులేటింగ్ ఆక్సైడ్ పొర, పరాన్నజీవి కెపాసిటెన్స్‌ను కనిష్టీకరించడానికి సూక్ష్మంగా రూపొందించబడింది, అవాంఛిత విద్యుత్ జోక్యాన్ని తగ్గించడం ద్వారా పరికర పనితీరును మెరుగుపరుస్తుంది.దిగువ సిలికాన్ సబ్‌స్ట్రేట్ యాంత్రిక మద్దతును అందిస్తుంది మరియు ఇప్పటికే ఉన్న సిలికాన్ ప్రాసెసింగ్ టెక్నాలజీలతో అనుకూలతను నిర్ధారిస్తుంది.

మైక్రోఎలక్ట్రానిక్స్‌లో, SOI పొర ఉన్నతమైన వేగం, శక్తి సామర్థ్యం మరియు విశ్వసనీయతతో అధునాతన ఇంటిగ్రేటెడ్ సర్క్యూట్‌ల (ICలు) తయారీకి పునాదిగా పనిచేస్తుంది.దీని మూడు-పొరల నిర్మాణం CMOS (కాంప్లిమెంటరీ మెటల్-ఆక్సైడ్-సెమీకండక్టర్) ICలు, MEMS (మైక్రో-ఎలక్ట్రో-మెకానికల్ సిస్టమ్స్) మరియు పవర్ పరికరాల వంటి క్లిష్టమైన సెమీకండక్టర్ పరికరాల అభివృద్ధిని అనుమతిస్తుంది.

RF డొమైన్‌లో, SOI పొర RF పరికరాలు మరియు సిస్టమ్‌ల రూపకల్పన మరియు అమలులో విశేషమైన పనితీరును ప్రదర్శిస్తుంది.దాని తక్కువ పరాన్నజీవి కెపాసిటెన్స్, అధిక బ్రేక్‌డౌన్ వోల్టేజ్ మరియు అద్భుతమైన ఐసోలేషన్ లక్షణాలు RF స్విచ్‌లు, యాంప్లిఫైయర్‌లు, ఫిల్టర్‌లు మరియు ఇతర RF భాగాలకు ఆదర్శవంతమైన సబ్‌స్ట్రేట్‌గా చేస్తాయి.అదనంగా, SOI పొర యొక్క స్వాభావిక రేడియేషన్ టాలరెన్స్ ఏరోస్పేస్ మరియు డిఫెన్స్ అప్లికేషన్‌లకు అనుకూలంగా ఉంటుంది, ఇక్కడ కఠినమైన వాతావరణంలో విశ్వసనీయత చాలా ముఖ్యమైనది.

ఇంకా, SOI పొర యొక్క బహుముఖ ప్రజ్ఞ ఫోటోనిక్ ఇంటిగ్రేటెడ్ సర్క్యూట్‌లు (PICలు) వంటి అభివృద్ధి చెందుతున్న సాంకేతికతలకు విస్తరించింది, ఇక్కడ ఒకే ఉపరితలంపై ఆప్టికల్ మరియు ఎలక్ట్రానిక్ భాగాల ఏకీకరణ తదుపరి తరం టెలికమ్యూనికేషన్స్ మరియు డేటా కమ్యూనికేషన్ సిస్టమ్‌లకు వాగ్దానం చేస్తుంది.

సారాంశంలో, మూడు-పొరల సిలికాన్-ఆన్-ఇన్సులేటర్ (SOI) పొర మైక్రోఎలక్ట్రానిక్స్ మరియు RF అప్లికేషన్‌లలో ఆవిష్కరణలో ముందంజలో ఉంది.దాని ప్రత్యేక నిర్మాణం మరియు అసాధారణమైన పనితీరు లక్షణాలు విభిన్న పరిశ్రమలలో పురోగతికి మార్గం సుగమం చేస్తాయి, పురోగతిని నడిపించడం మరియు సాంకేతికత యొక్క భవిష్యత్తును రూపొందించడం.